Nat. Nanotechnol.：在Cu/Ni（111）箔上大面积生长单晶AB双层和ABA三层石墨烯

不二

2020-01-22

大于1厘米的高质量AB堆叠双层或多层石墨烯目前尚未见报道。近日，韩国UNIST Rodney S. Ruoff报告了在单晶Cu/Ni(111)合金箔上，通过化学气相沉积的方法生长大面积、高质量的AB堆叠双分子层和ABA堆叠三层石墨烯薄膜。通过拉曼光谱和透射电镜对石墨烯薄膜的堆积顺序、覆盖范围和均匀性进行评估，电输运(载流子迁移率和带隙可调性)和热导率(双层石墨烯的热导率值约为2300 W m⁻¹ K⁻¹)的测量表明薄膜的品质优良。作者通过测量260 nm厚聚碳酸酯膜支撑下的石墨烯薄膜的拉伸载荷响应，得到其杨氏模量和断裂强度的平均值分别为478 GPa和3.31 GPa。该工作为制备厘米级别大面积合成AB堆叠双层和ABA三层石墨烯提供了思路。

Ming Huang, Pavel V. Bakharev, Zhu-Jun Wang, Mandakini Biswal, Zheng Yang, Sunghwan Jin, Bin Wang, Hyo Ju Park, Yunqing Li, Deshun Qu, Youngwoo Kwon, Xianjue Chen, Sun Hwa Lee, Marc-Georg Willinger, Won Jong Yoo, Zonghoon Lee & Rodney S. Ruoff. Large-area single-crystal AB-bilayer and ABA-trilayer graphene grown on a Cu/Ni(111) foil. Nature Nanotechnology. 2020

DOI: 10.1038/s41565-019-0622-8

https://doi.org/10.1038/s41565-019-0622-8