ACS Catal:Heck反应中催化均/异相机理的考察

伴随着固体Pd催化剂用于Heck偶联反应的发展,许多相关工作对该反应是均相反应还是异相反应进行了研究,目前大多数研究者认为在均相催化反应中,该反应通过分子催化剂进行。最近,催化剂在催化反应过程中的溶解/再沉积过程受到了广泛关注,慕尼黑工业大学Klaus Köhler等对不同固体催化剂前驱物种在Heck反应中的作用情况进行研究,对催化剂Pd物种的催化活性和其催化反应过程中的溶解过程进行比较,通过对溴苯/氯苯的Heck反应动力学和Pd的溶解过程进行监测,催化反应中Pd在溶剂中的溶解过程和催化反应同时进行,通过对Pd溶解过程和反应温度之间的变化过程进行测试,揭示了界面Pd物种溶解到溶液中催化反应,当催化反应结束后,重新分散到SiO2上的过程。
PdO/SiO2制备。通过沉积H2PdCl4方法,并调节pH值实现在SiO2界面上负载PdO。
催化反应实施。以溴苯/氯苯和1.3倍量苯乙烯作为反应物,在室温~200 ℃之前进行反应。首先对分子Pd/SiO2、PdO2/SiO2催化反应中溶解动力学过程进行表征,并分析其区别。通过温度变化过程对溶解过程的改变,作者对溶解过程中的具体步骤进行理解。
在室温到200 ℃范围内3 h内分别使用PdO2/SiO2、PdMe(tmeda)/SiO2催化反应中溶液溶解的Pd量进行表征,PdMe(tmeda)/SiO2在40~120 ℃中会以PdII物种溶解到溶剂中,在>120 ℃中会还原反应生成Pd0Ln和Pd0n。在130~140 ℃中和卤化物进行氧化加成反应生成对应的PdII。
Christoph Gnad, Andrea Abram, Alexander Urstoeger, Florian Weigl, Michael Schuster, Klaus Köhler*
Leaching Mechanism of Different Palladium Surface Species in Heck Reactions of Aryl Bromides and Chlorides,ACS Catal 2020,
DOI:10.1021/acscatal.0c01166
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acscatal.0c01166
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