ACS Catal:甲烷还原IrO2(110)原位近常压XPS表征

2021-04-09
在500~650 K温度区间,将CH4连续暴露在Ir(100)上的IrO2(110)薄膜,将导致CH4分子由于和IrO2反应而减少。有鉴于此,佛罗里达大学Jason F. Weaver等报道了通过原位XPS表征,验证了在IrO2(110)上CH4与桥氧Obr反应,从而氧化生成HObr,同时消除氧化物薄膜中的氧原子。
参考文献
Rachel Martin, Minkyu Kim, Christopher J. Lee, Vikram Mehar, Stefano Albertin, Uta Hejral, Lindsay R. Merte, Aravind Asthagiri, and Jason F. Weaver*, Isothermal Reduction of IrO2(110) Films by Methane Investigated Using In Situ X-ray Photoelectron Spectroscopy, ACS Catal. 2021, 11, 5004–5016
DOI: 10.1021/acscatal.1c00702
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acscatal.1c00702
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